设备服务高速干式金属蚀刻设备

设备应用

  • 电浆干式蚀刻制程
  • 蚀刻材料:Cu, Ti, Ta, Si, SiO2,Pd…(等各式金属)
  • 基材:Wafer, Si, Glass, PP, PMMA,Cu…(各式基材)

设备特色

  • 高速干式蚀刻制程
  • 高冷却能力,低基材变形量
  • 物理性的离子蚀刻方式
  • 高纵横比蚀刻方向
  • 高产能、低运转成本
  • 无特殊气体需求
  • 模块化设计,可依需求客制化
  • 基板尺寸:21” x 24”