设备服务等离子蚀刻设备

设备应用

  • 等离子干式蚀刻设备
  • 表面改质、粗糙化、清洁、深孔蚀刻
  • 蚀刻材料: PP, PR, Dry Film, Epoxy,…(各式聚合物)
  • 基材: Wafer, Si, Glass, PP, PMMA,Cu…(各式基材)

设备特色

  • In-line 连续式设计
  • 高纵横比蚀刻方向、高离子能量
  • 特殊的结构设计减少电弧,增加电浆稳定性
  • 高产能、低运转成本
  • 无特殊气体需求
  • 模块化设计,可依需求客制化
  • 基板尺寸:21” x 24”