设备服务ITO

设备规格

  • 工作尺寸: 350mm x 350mm
  • 机台尺寸: L 4.2M x W 2.5M x H 2.4M
  • 产能:Kioth-I100 2” 116K/Mon
          Kioth-I200 2” 230K/Mon
  • 计算基础:24hr/26Day

设备特色

  • 全系统可搭配2”, 4”, 6”治具生产
  • MMC Cathode 搭载自动翻转
  • Sputter 膜可控制较小Grain
  • ITO薄膜致密性高、穿透率高
  • Sputter Multi ITO薄膜结构设计
  • Cathode I : Super Low Damage、薄膜
  • Cathode II : Low Damage、极薄膜、高速成膜
  • 磁性流体传动导入
  • 全机无油设计